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KZP-300G振動拋光機

簡要描述:KZP-300G振(zhen)動拋(pao)光(guang)(guang)機采用彈簧板(ban)及(ji)磁(ci)吸合電機來產生(sheng)左(zuo)右方向的(de)(de)振(zhen)動,但是連接拋(pao)光(guang)(guang)盤與振(zhen)體之(zhi)間(jian)(jian)的(de)(de)彈簧板(ban)是有角度的(de)(de),因而使得試(shi)樣在拋(pao)光(guang)(guang)盤內(nei)作圓周(zhou)運動。不同于(yu)傳統的(de)(de)振(zhen)動拋(pao)光(guang)(guang)機,本機可以(yi)產生(sheng)幾乎*水(shui)平方向的(de)(de)振(zhen)動,較大限度地提高了樣品接觸拋(pao)光(guang)(guang)布的(de)(de)時(shi)間(jian)(jian),在拋(pao)光(guang)(guang)過程對樣品沒(mei)有產生(sheng)任何(he)附加損傷層(ceng)和(he)變形層(ceng),可以(yi)有效地去除和(he)避(bi)免浮凸、嵌(qian)入和(he)塑性(xing)流(liu)變等缺陷。

  • 產品型號:
  • 廠(chang)商性(xing)質(zhi):生產廠家
  • 更新時(shi)間(jian):2024-01-18
  • 訪  問(wen)  量:941

詳細介紹

品牌其他品牌尺寸(L*W*D)540×620×420mm
磨盤個數1個磨盤尺寸300mm
價格區間面議產地類別國產
應用領域電子,冶金,航天,汽車,電氣

KZP-300G振動拋光機

 

產品簡介:

振動拋光是一種最大限度減少試樣磨損的拋光技術,適用于在各種材料上制備高質量的拋光表面,包括電子背散射衍射分析 (EBSD) 應用。KZP-300G型振動拋光機用彈簧板及磁吸合電機來產生左右方向的振動但是連接拋光盤與振體之間的彈簧板是有角度的,因而使得試樣在拋光盤內作圓周運動。不同于傳統的振動拋光機,本機可以產生幾乎*水平方向的振動,較大限度地提高了樣品接觸拋光布的時間在拋光過程對樣品沒有產生任何附加損傷層和變形層可以有效去除和避免浮凸嵌入和塑性流變等缺陷該機外觀新穎美觀,動頻率可隨工作電壓自動調節操作簡單,可一次放置多個試樣,無需人員值守,用戶設定好參數后就可以離開,等待試樣自動完成振動拋光。設備配合最終拋光液,可有效去除樣品表面存在的最終薄變形層,改善試樣表面的光反射性,從而更利于獲得趨于完美的金相觀測圖像,是最終物理拋光利器

 

主要參數:

型(xing)號(hao)

KZP-300G

拋盤(pan)直徑

300mm

拋布(bu)直徑

300mm

功率

1.5kW

電壓范圍

1-220V

頻率(lv)范圍

40-240Hz

最大設置(zhi)時間(jian)

0-9999分鐘

夾持樣品直徑

Ф25mm,Ф30mm,Ф40mm

輸入電源

單相(xiang)220V,50Hz, 8A

外(wai)形(xing)尺寸

540×620×420mm

凈重

90kg

 

標準配置:

名稱

規(gui)格

數量

主機

 

1臺

夾持器(配重塊(kuai))

 

6個

內六角扳手(shou)

3mm, 5mm

各1把

背膠拋光布

300mm

2張

懸浮液

W0.5

1瓶

說明書

 

1份

合(he)格證

 

1份

 

應用案例:

 

低碳高強度鋼回火、振動拋光之后的EBSD取向圖

 

低碳高強度鋼回火、振動拋光之后的EBSD晶粒圖

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